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Ionpure-EDI系统设计及运行维护手册
Ionpure-EDI系统设计及运行维护手册
技术资料目录
Ionpure-EDI系统设计及运行维护手册
目录
CEDI服务培训
内容
内容
进水要求
进水要求
进水硬度
防止CEDI结垢的设计
避免这一常见错误
RO开机时的产水水质
除氯
还原剂
活性碳
产水水质 – CEDI vs MBDI
CEDI浓水回收
电极反应
CEDI 浓水回收 - CO2 问题 - 1
CEDI 浓水回收 - CO2 问题 - 2
CO2 对离子负荷的影响
RO产水直接进入CEDI
RO与CEDI之间设置中间水箱
锅炉补给水 (电厂)
USP 纯化水 (制药)
半导体用水 (电子级)
CEDI 其它 “注意事项” – 进水
CEDI 其它“注意事项” – 水力
IP-Pro
Ionpure 设计软件 - IP-Pro (输入界面)
Ionpure 设计软件 - IP-Pro (系统界面)
Ionpure 设计软件 - IP-Pro (输出界面)
Ionpure 设计软件 - IP-Pro (打印预览页面1)
Ionpure 设计软件 - IP-Pro (打印预览页面2)
启动和运行
本节内容
检查LX膜堆扭矩
LX膜堆镙栓拧紧顺序
MX和VNX 膜堆不需要拧紧
什么是FCE?
计算FCE
FCE 计算示例
计算所需的电流
计算所需的电流
电流计算示例 - LX
电流计算示例 - VNX
设定DC电流
运行所需电压
监测电流、电压
设置CEDI 系统流量&压力
CEDI压力平衡
LX 压力平衡示例
CEDI回收率
计算CEDI浓水流量
计算CEDI 总进水流量
设置流量和压力
产水流量范围
LX 产水压力降
LX 浓水压力降
VNX 产水压力降
进水水温对CEDI压力降的影响
CEDI 启动小结 1
CEDI 启动小结 2
CEDI 启动小结 3
推荐水质分析设备
定期维护
Comments
故障检修
本节内容
几个注意点
CEDI故障检修所需要素
避免定向思维
氧化 – 原因
氧化 – 症状
氧化 – 纠正措施
树脂氧化示例
结垢 – 原因
结垢 – 症状
结垢 – 纠正措施
LX 阴极结垢示例
LX 阴离子交换膜上的结垢 (浓水侧)
有机污染 – 原因
有机物污染 – 症状
有机物污染 – 纠正措施
有机污染示例
有机污染示例
微生物污染
进水过压
高温
颗粒堵塞
颗粒堵塞
CEDI 故障检修: 必需数据
必需数据: 理由
必需数据: 理由
CEDI 故障检修: 产水水质差
CEDI 故障检修: 膜堆电阻增加
CEDI 故障检修: 流量降低
需要问的问题
更多的问题
检修流程图
物量恒算
进远大于出
Ionpure 膜堆 O&M 手册
服务公告
清洗和消毒
本节内容
重要事项
定义
清洗的目的
CEDI 清洗化学药品
CEDI 清洗化学品: 推荐药品等级
清洗/消毒过程均应注意的事项
清洗流量: LX
清洗流量: VNX
典型的就地清洗 (CIP) 系统图
就地清洗 (CIP ——Clean in Place) 系统示例
盐水冲洗
普适信息
HCl——清洗
NaCl/NaOH——清洗
NaOH溶液——清洗/消毒
过碳酸钠 ——清洗/消毒
多介质清洗 (“3 步骤”)
过乙酸消毒
LX——热水消毒
热水消毒 “注意事项”
何种情况需要清洗 ?
针对高浓水室压降?
针对高产水室ΔP ?
针对高的膜堆电阻?
所有参数都正常，但产水水质差?
关机/保存
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jrf2006
详细信息
类目：
手册->工艺
描述：
Ionpure-EDI系统设计及运行维护 西门子原厂培训手册
上架时间：
关键字：
西门子EDI
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